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“中國(guó)材料大會(huì)”圓滿落幕 CIF等離子清洗機(jī)表現(xiàn)出色!

更新時(shí)間:2024-07-15       點(diǎn)擊次數(shù):277


“中國(guó)材料大會(huì)


“中國(guó)材料大會(huì)"是中國(guó)材料研究學(xué)會(huì)的學(xué)術(shù)年會(huì),是重要的系列品牌會(huì)議之一,是中國(guó)新材料界學(xué)術(shù)水平最高、涉及領(lǐng)域廣、前沿動(dòng)態(tài)最新的超萬人學(xué)術(shù)大會(huì),是面向國(guó)家重大需求、推動(dòng)新材料前沿重大突破的高水平品牌大會(huì)。

為推動(dòng)經(jīng)濟(jì)社會(huì)高質(zhì)量發(fā)展,加快建設(shè)科技強(qiáng)國(guó),實(shí)現(xiàn)高水平科技自立自強(qiáng),于2024年7月8-11日在廣東省廣州市舉辦中國(guó)材料大會(huì)2024,同期召開第二屆世界材料大會(huì)。會(huì)議涵蓋能源材料、環(huán)境材料、先進(jìn)結(jié)構(gòu)材料、功能材料、材料設(shè)計(jì)制備與評(píng)價(jià)等5大類主題;同時(shí)開設(shè)一批特色論壇,包括青年論壇、特色新材料論壇、材料教育論壇、材料期刊論壇等。除此之外,還同期舉行國(guó)際新材料科研儀器與設(shè)備展覽會(huì)等。


“中國(guó)材料大會(huì)


CIF應(yīng)邀參加此次展會(huì),展出了CIF等離子清洗機(jī)、CIF等離子去膠機(jī)、CIF紫外臭氧清洗機(jī)、CIF勻膠機(jī)、CIF烤膠機(jī)等產(chǎn)品。

“中國(guó)材料大會(huì)

大會(huì)實(shí)況


本次“中國(guó)材料大會(huì)"非常熱鬧,CIF展臺(tái)吸引許多老師駐足,紛紛表示出極大的興趣,以便后續(xù)合作。

CIF等離子清洗機(jī)作為當(dāng)家花旦,不管從顏值還是內(nèi)涵都深受老師的喜愛,老師表示“你們的等離子清洗機(jī)顏值又高、功能又全面。"

“中國(guó)材料大會(huì)
“中國(guó)材料大會(huì)
“中國(guó)材料大會(huì)
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CIF產(chǎn)品介紹

一、表面改性-等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)

CIF等離子清洗設(shè)備在自動(dòng)化、智能化進(jìn)行了技術(shù)升級(jí),使得產(chǎn)品性能更加穩(wěn)定,操更加作簡(jiǎn)單方便,更易維護(hù)。尤其是合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、線路板、LED、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域,用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等。

1、CIF科研型等離子清洗機(jī)系列產(chǎn)品

“中國(guó)材料大會(huì)

2、CIF行業(yè)專用等離子清洗系列產(chǎn)品

“中國(guó)材料大會(huì)

3、CIF紫外臭氧清洗機(jī)系列產(chǎn)品

CIF紫外臭氧清洗機(jī)系列產(chǎn)品采用長(zhǎng)壽命UV石英低壓汞蒸汽格柵燈,樣品臺(tái)高度可調(diào)并可選加熱控溫,能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物,達(dá)到最佳清洗效果。

“中國(guó)材料大會(huì)

二、表面去膠-等離子去膠機(jī)

CIF等離子去膠機(jī),采用電感耦合各向同性(各個(gè)方向)等離子激發(fā)方式,適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。特別適合于大學(xué),科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,對(duì)電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層,干刻或濕刻處理前或后,對(duì)基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除,以及晶圓表面預(yù)處理等。

“中國(guó)材料大會(huì)

三、表面刻蝕-等離子刻蝕機(jī)

CIF反應(yīng)離子刻蝕機(jī),采用RIE反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所,微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介電材料(SiO2、SiNx等)刻蝕、硅基材料(Si,a-Si,poly Si)刻蝕、III-V材料(GaAs、InP、GaN等)、濺射金屬(Au、Pt、Ti、Ta、W等)等基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行RIE反應(yīng)離子刻蝕

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